第十四届中国国际半导体博览会暨高峰论坛，将在上海新国际博览中心隆重举行（同期举办的还有第88届中国电子展、亚洲电子展等顶级行业盛会），盛美半导体设备（上海）有限公司携半导体湿法设备（深孔清洗、图形结构清洗、薄片清洗、湿法刻蚀、涂胶、去胶、显影、等设备）亮相此次展会。
此次展会，盛美主要推广的优势技术产品为兆声波清洗设备，用化学药液配合兆声波装置对晶圆表面进行湿法清洗工艺，可有效去除颗粒，金属杂质，以及表面残余污染物等，清洗效果显著，并且能控制晶圆图形结构不受到损伤和破坏。目前盛美的兆声波清洗设备已用于多家国际知名半导体制造商。
公司简介：
公司成立于1998年在硅谷，ACM的研究，公司专业从事湿法处理技术在半导体工业和生产应用在世界一流设备的各种类型：
2006九月，美国扩大了市场对亚洲和形成的子公司，ACM的研究（上海），公司目前位于Zhangjiang高科技园区的上海中国，ACM的研究（上海）公司进行的活动，从研发、工程、制造、营销、销售和客户服务，有超过100个国际专利授权强大的知识产权组合，ACM是致力于为客户提供领先的技术解决方案，世界一流的产品和优质的服务。
